Химическое осаждение из газовой фазы в производстве полупроводниковых устройств: патентный анализ

Chemical Vapor Deposition CVD – технология получения компонентов полупроводниковых устройств с помощью газообразных химических веществ. О ней мы и поговорим в сегодняшнем материале.